info@tessvida.com    +8615026797351
Cont

Có câu hỏi nào không?

+8615026797351

video

Mục tiêu vàng có độ tinh khiết cao-

Mật độ cao và tính đồng nhất hình thành màng đặc biệt hỗ trợ các hình dạng tùy chỉnh khác nhau và các dịch vụ liên kết tấm ốp.

Mục tiêu vàng-có độ tinh khiết cao là mục tiêu phún xạ kim loại quý được chế tạo từ vàng có độ tinh khiết cực cao-cao{2}} thông qua quá trình nấu chảy, rèn, cán và xử lý cơ học chính xác. Chúng chủ yếu được sử dụng trong quá trình phún xạ magnetron lắng đọng hơi vật lý (PVD). Các mục tiêu này có độ tinh khiết cao, mật độ cao, bề mặt nhẵn và độ chính xác về kích thước có thể kiểm soát, cho phép lắng đọng các màng vàng đồng nhất,-khuyết tật thấp và có tính dẫn điện cao cho các ứng dụng trong chất bán dẫn, vi điện tử, thiết bị quang học và cảm biến. Chúng tương thích với các thiết bị phún xạ chính thống và các quy trình phủ khác nhau.
Gửi yêu cầu

Giơi thiệu sản phẩm

Mô tả sản phẩm

 

Các mục tiêu vàng-có độ tinh khiết cao này được sản xuất từ ​​vật liệu vàng có độ tinh khiết cực cao-cao{2}} và có sẵn ở các thông số kỹ thuật hình tròn, hình vuông, hình chữ nhật và hình dạng-tùy chỉnh, có hỗ trợ cho các dịch vụ liên kết tấm ốp lưng (liên kết indi/liên kết thân đàn hồi). Các sản phẩm này tương thích với hầu hết các hệ thống phún xạ của các thương hiệu, mang lại độ đồng nhất màng tuyệt vời và tốc độ phún xạ ổn định, khiến chúng trở nên lý tưởng cho-các ứng dụng lắng đọng màng mỏng cao cấp như điện cực bán dẫn, lớp phủ quang học, thiết bị điện tử linh hoạt và cảm biến sinh học.

 

 

Đặc trưng

  • Độ tinh khiết được phân thành loại có độ tinh khiết thông thường và độ tinh khiết cực cao-
  • Mật độ cao với cấu trúc mô đồng đều
  • Thể hiện độ mịn bề mặt cao và độ chính xác gia công tuyệt vời
  • Đối với quá trình phún xạ DC
  • Màng phún xạ có độ dày đồng đều với độ bám dính tuyệt vời
  • Nó cung cấp một thành phần bảng nối đa năng ràng buộc để đơn giản hóa việc-cài đặt máy
  • Tương thích với các thiết bị phún xạ magnetron thương hiệu chính thống

 

Thông số kỹ thuật và mô hình

 

Để tùy chỉnh về đường kính, độ dày, độ tinh khiết, loại liên kết hoặc thông số kỹ thuật, vui lòng liên hệ với chúng tôi. Chúng tôi có thể cung cấp các giải pháp vật liệu phù hợp dựa trên mẫu thiết bị phún xạ, yêu cầu về lớp phủ và thông số kỹ thuật về kích thước của bạn.

 

Kích thước phân loạiLoại sản phẩmTính năng cốt lõi
Cấp độ tinh khiết

 

Mục tiêu vàng có độ tinh khiết cao--Các ứng dụng bán dẫn và lớp phủ quang học có mục đích chung.
Mục tiêu vàng có độ tinh khiết cực cao-Thích hợp cho các thiết bị-cao cấp và các ứng dụng có lớp phủ có độ chính xác-cao.
định dạng sản phẩmMục tiêu vàng trònThông số kỹ thuật tiêu chuẩn, phù hợp với các tình huống chung.
Mục tiêu vàng hình vuông/hình chữ nhậtThích hợp cho lớp phủ có diện tích lớn-và các khoang đặc biệt.

 

 

Ưu điểm sản phẩm

 

  • Độ tinh khiết cao với tạp chất thấp
  • Độ chính xác xử lý cao
  • Mật độ cao, phún xạ ổn định
  • Thể hiện tính đồng nhất của phim tuyệt vời
  • Phạm vi thông số kỹ thuật toàn diện
  • Hỗ trợ xử lý ràng buộc

 

 

Ứng dụng

 

  • Chuẩn bị điện cực chip bán dẫn và màng dây kim loại
  • Thiết bị vi điện tử, lớp dẫn điện cảm biến MEMS
  • Thiết bị quang học: màng phản chiếu, màng lọc, lớp phủ hồng ngoại
  • Thiết bị điện tử và hiển thị linh hoạt: Lớp dẫn điện trong suốt
  • Cảm biến sinh học, màng tương thích sinh học điện tử y tế
  • Công nghệ phủ-cao cấp; lắng đọng màng mỏng trong phòng thí nghiệm nghiên cứu

 

 

Chú phổ biến: mục tiêu vàng có độ tinh khiết cao, nhà sản xuất, nhà cung cấp, nhà máy mục tiêu vàng có độ tinh khiết cao của Trung Quốc

Gửi yêu cầu